CMP是指半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中晶圓生產(chǎn)的研磨工藝,它使用研磨工具與研磨拋光液將晶圓變得光滑，研磨拋光液的漿料顆粒從30-200μm廣泛分布，按標(biāo)準(zhǔn)應(yīng)該把漿料顆粒控制在0.5μm以內(nèi)。如果不過(guò)濾掉大于0.5μm的顆粒將導(dǎo)致晶圓表面被刮傷，于是漿料過(guò)濾便成為該工藝的關(guān)鍵點(diǎn)。CMP過(guò)濾濾芯幫助客戶在CMP過(guò)濾中去除掉影響產(chǎn)品的顆粒，放行有效顆粒。
光刻工藝是微圖形轉(zhuǎn)移工藝，隨著半導(dǎo)體加工的線寬越來(lái)越小，光刻工藝對(duì)極小污染物的控制苛刻到極致，不光對(duì)顆粒嚴(yán)格控制，嚴(yán)控過(guò)濾產(chǎn)品的金屬離子析出，這對(duì)濾芯生產(chǎn)制造提出了特別高的要求。過(guò)濾給半導(dǎo)體客戶提供半導(dǎo)體級(jí)別的全氟濾芯，超低的金屬析出溶出確保了產(chǎn)品的潔凈。
廠務(wù)系統(tǒng)過(guò)濾
半導(dǎo)體制造過(guò)程中，廠務(wù)系統(tǒng)為FAB提供生產(chǎn)制造用潔凈的工藝氣體，超純水，超凈電子化學(xué)品。大批量，長(zhǎng)時(shí)間不間斷的供應(yīng)，對(duì)過(guò)濾的穩(wěn)定性提出了很高的要求。恒水過(guò)濾為廠務(wù)系統(tǒng)過(guò)濾提供專有的過(guò)濾產(chǎn)品。大流量濾芯的產(chǎn)品，全氟耐腐蝕產(chǎn)品，以及高精度高效率過(guò)濾產(chǎn)品，為廠務(wù)系統(tǒng)的安全供應(yīng)提供了服務(wù)。
超凈電子化學(xué)品作為半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的關(guān)鍵材料，在半導(dǎo)體的生產(chǎn)過(guò)程中起著關(guān)鍵的作用，各種不同特性的電子化學(xué)品對(duì)過(guò)濾產(chǎn)品的要求各有不同，對(duì)過(guò)濾產(chǎn)品的潔凈度，低析出有著嚴(yán)苛的要求。恒水過(guò)濾采用行業(yè)先進(jìn)的設(shè)備，對(duì)過(guò)濾產(chǎn)品進(jìn)行嚴(yán)格的潔凈度的管控，低析出，低金屬離子產(chǎn)品，為半導(dǎo)體行業(yè)的穩(wěn)定、安全、可靠生產(chǎn)提供了幫助。
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